Tenting Resist strippen

[MichiK (Gast)]

Servus,

ich habe heute das erste mal das Tenting Resist von Bungard verwendet.
Und zwar habe ich es auf eine Platine aufgebracht, welche bereits mit 
Dynamask (Lötstopp) versehen war. Ziel war es, Bestückungsdruck AUF dem 
Lötstopp zu erhalten.
Dies hat wider erwarten eigentlich ganz gut funktioniert.
Leider hat bei mir das Entwickeln relativ lange gedauert. Bei manchen 
Pads habe ich das Resist nicht richtig abbekommen.
Nun die Fragen.

1. Belichtet habe ich 90 Sekunden unter 4 x 8 W. Ist das eventuell zu 
lange?
2. Entwickelt mit 1% (10g/l) Na2CO3. War das vielleicht zu wenig? Habe 
zusätzlich einen Pinsel verwendet
3. Falls die ersten 2 Punkte nicht der richtige Ansatz sind, wie sieht 
es dann mit Strippen in NaOH aus? Würde das direkt nach dem Entwickeln 
machen.
Frage: Löst sich dadurch entweder der Lötstopp oder der belichtete Teil 
des Resists ab? Ich möchte nur den unbelichteten Teil des Resists 
entfernen.

Danke!


mfg

Michl

[Guido (Gast)]

1.) ist arg lang, mir reicht die Hälfte (40 s)

2.) ist o.k., Pinsel ist Blödsinn

3.) Ist der Lötstopp ausgehärtet, löst er sich in NaOH nicht
mehr. das Tentingresist geht dann mit einer scharfen Lösung
(1 Teelöffel auf die Wassermenge, die die Platine überspült)
wieder runter. Das dauert ev. etwas länger (5 min., keine Panik).

[Mike M. (mikeii)]

Bäckt einer von euch eigentlich die Dynamask im Ofen, oder lasst ihr sie 
länger im UV licht aushärten?

Danke

[Michaelk (Gast)]

Bisher nur mit UV. Macht aber einen sehr stabilen Eindruck. Werde die 
Belichtungszeit beim Resist noch auf 60 Sekunden reduzieren. Beim 
Lötstopp habe ich mit 90 Sek. allerdings gute Erfahrungen gemacht.
@Guido: Wie lange belichtest du die Dynamask? Auch länger als das 
Resist?



Mfg

[Guido (Gast)]

Dynamask belichte ich mittlerweile fast 2 min., habe mich da
langsam hochgearbeitet. Zum Aushärten nutze ich am liebsten
die Sonne, notfalls den Belichter. Mein Ofen hat keine Zuluft.

[Michaelk (Gast)]

Habe eben nochmal einen durchgang mit 60 Sekunden gemacht. Gefällt mir 
vom Handling schon besser. Ich werde probehalber noch einen Durchgang 
mit 70 machen, ansonsten bleibe ich dabei.
Entwickeln dauert bei mir allerdings jeweils um die 5 Minuten, auch beim 
Lötstopp (der Entwickler kühlt bei mir schnell ab, da ich die beheizte 
Küvette nur zum Ätzen nutze; evtl liegt es daran).


Mfg

[Guido (Gast)]

Die Entwicklung dauert mit den Resists schon deutlich länger
als mit Positivlack. So 2 bis 3 min. brauche ich auch. Ich
erwärme Wasser auf etwas über 50 °, löse das Soda darin und
dann kommt die Platine rein. So schnell kann das garnicht
abkühlen.

60 oder 70 Sekunden belichten ist egal, da spielt die
Zimmertemperatur eine größere Rolle.