Forum: Platinen Negativresist entwickeln


von Michael (Gast)


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In der Lehrfibel steht Na2CO3 , es wird keine Konzentration angegeben.

https://www.basista.de/content/download/100/416/file/leiterbildherstellung_fotodruck-vde-schulung.pdf

Seite 12

Die Amis svhütten einfach löffelweise Soda rein, scheinbar ohne 
abzumessen.

Was ist die richtige Dosierung?

von Guido B. (guido-b)


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Imho einprozentig, also 10g/l. Entwickeln bei 45 °C.

von Michael (Gast)


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Es steht in der Riston Verarbeitungsanleitung 1,5 Bar Sprühdruck, das 
habe ich Hobby noch nicht gesehen, also normal Schale?

von Guido B. (guido-b)


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Das ist schwerer zu beantworten. Ich habe es bisher immer in der
Schale entwickelt, mit sehr viel Bewegung. Leicht belichtetes
Laminat löst sich aber nicht auf, sondern nur ab. Das schlägt
sich dann unter Umständen irgendwo nieder. Bei groben Strukturen
ist das kein Problem, bei feinen schon. Ich bin daher auch am
Überlegen einen Sprühentwickler zu bauen.

von Dieter F. (Gast)


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Michael schrieb:
> In der Lehrfibel steht Na2CO3 , es wird keine Konzentration angegeben.

Die richtige Seite (52) muss man halt aufschlagen :-)

von Michael (Gast)


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Ja, das habe ich doch übersehen, 1 Gewichtsprozemt, also wie bei dem 
Positivlack/NaOH Verfahren auch.

Allerdings soll sprühentwickelt werden, da habe ich keine Maxchine zu.

Danke für den Hinweis.

von Cyborg (Gast)


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Michael schrieb:
> Die Amis svhütten einfach

Was hast du denn immer mit den Amis? Die Verwendung von Resisten
wird weltweit so gehandhabt, je nach gewählten Prozess und dafür
sind die Maschinen dann optimiert. Schalen und Küvetten sind in
der Leiterplattenproduktion weitgehend unbekannt.
Für den Hobbybereich ist das Verfahren gar nicht geplant gewesen.

von Michael (Gast)


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Negativresist ist in den youtube hobby platinen Foren unserer Freunde 
oft verwendet im Hobbybereich.

Hier sehenich oft Bungard und Proma vorbeschichtete.

Das scheint dort nicht so verbreitet zu sein.

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